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PD-HY-606精抛蜡
抛光蜡系列PD-HY-606精抛蜡颜色：白色乳液粘度（mPa·S）：25000-30000固含量（%）：43±1粒度（μm）：D50=1.2-1.6体系稳定，乳化均匀，能有效避 免抛光过程中产生大的划伤 , 磨料颗粒分布适中，获得镜面效果的同时有较高研磨速率；水性配方 , 易于清洗；发热量少 , 不灼烧工件，无粉尘产生，无燃 爆危险。适用···
PD-HY-502中抛蜡
抛光蜡系列PD-HY-502中抛蜡颜色：粉色乳液粘度（mPa·S）：25000-30000固含量（%）：48±1粒度（μm）：D50=4.7-5.2性质稳定，粘度适宜，适用于常规金 属材质抛光工序，能快速去除 CNC 刀纹、毛刺等粗糙表面，增加工件的光洁度；抛光过程中无残蜡，易于 清洗；可有效保护抛光件表面；安 全无毒，符合欧盟 RoHS···
PD-GP-702蓝宝石精抛液
非金属研磨液系列PD-GP-702陶瓷镜面抛光液比重（g/ml）:1.30±0.05固含量（%）:40±1粒径:D50=100±0.5nmpH:10.5±0.5利用大粒径的胶体二氧化硅为 磨料，可提供较高的抛光效率, 金属离子总浓度小,有效减小对电子类产品的沾污，适用于LED 蓝宝石衬底、光学窗口片的超精 密抛光。
PD-GP-701陶瓷镜面抛光液
非金属研磨液系列PD-GP-701陶瓷镜面抛光液比重（g/ml）:1.30±0.05固含量（%）:40±1粒径:D50=100±0.5nmpH:10±0.5利用大粒径二氧化硅 颗粒进行机械磨削， 快速出光；利用球形 二氧化硅颗粒进行抛光，减少对加工件造成物理损伤，达到高平坦化。
PD-GP-603二氧化硅精抛液
不锈钢研磨抛光液系列PD-GP-603二氧化硅精抛液比重：1.30±0.05(g/ml)固含量：40±1(%)；粒径：D50=60±5nmpH：10±0.5添加光亮助剂，可提升加工件的光亮度，适合不锈钢材料镜面抛光。
PD-GP-602精抛液
铝合金＆钛合金研磨液PD-GP-602精抛液比重:1.20±0.05(g/ml)固含量:25±1(%)粒径:D50=100±5nmpH:10±0.5悬浮体系稳定，不易结晶，可循环使用；抛光效果好，抛光件亮度高，粗糙度低，无橘皮、麻点等抛光不良。
PD-GP-601精抛液
铝合金＆钛合金研磨液PD-GP-601精抛液比重：20±0.05(g/ml)固含量:25±1(%)粒径:D50=60±5nmpH:10±0.5以球形二氧化硅为磨料，抛光液不结晶、易清 洗，配合适宜的抛光垫使用可得到高品质的镜 面效果。
PD-DA-M01金刚石研磨液
不锈钢研磨抛光液系列PD-DA-M01金刚石研磨液比重：1.05±0.05(g/ml)固含量：5±0.5(%)粒径：D50=1.5±0.5μmpH：3±0.5 以微米级单晶钻石为磨料，配合抛光铜盘使用，切削力强且加工件表面损伤小，可缩短加 工时间。
PD-CEP-02玻璃抛光液
非金属研磨液系列PD-CEP-02玻璃抛光液比重（g/ml）:1.95±0.05固含量（%）:70±1粒径:D50=1.0-1.5μm D100≤3.5μmpH:10±0.5高氧化铈磨料分散均 匀，耐磨性好，短时 间研磨即可得到明亮清透无瑕疵的产品， 磨料粒径分布收敛 无大颗粒,不易在加 工件表面造成划伤。
PD-AP-61碱性氧化铝精抛液
不锈钢研磨抛光液系列PD-AP-61碱性氧化铝精抛液比重：1.05±0.05(g/ml)；固含量：3.5±0.5(%)；粒径：D50=2±0.5μm；pH：8.5±0.5 纳米级磨料，加工件可达到镜面效果；弱碱性配方，不腐蚀抛光机台，可循环使用，用量少 , 成本低。
PD-AP-51湿抛液
铝合金＆钛合金研磨液系列PD-AP-51湿抛液比重:1.10±0.05(g/ml)固含量:12±1(%)pH:7.5±0.5粒径:D50=2±0.5um中性配方，安全不腐蚀抛光机台，适合循环使用，抛光效果好,工件表面纹路细腻，清洗后可直接进行镜面抛光。
PD-AP-41酸性氧化铝精抛液
不锈钢研磨抛光液系列PD-AP-41酸性氧化铝精抛液比重：1.10±0.05(g/ml)固含量：20±1(%)粒径 :D50=0.5-0.8 μmpH：3±0.5纳米级磨料，加工件可达到镜面效果，在同等条件下切削力是二氧化硅精抛液的 2 倍 以上。
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