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PD-GP-701陶瓷镜面抛光液
非金属研磨液系列PD-GP-701陶瓷镜面抛光液比重（g/ml）:1.30±0.05固含量（%）:40±1粒径:D50=100±0.5nmpH:10±0.5利用大粒径二氧化硅 颗粒进行机械磨削， 快速出光；利用球形 二氧化硅颗粒进行抛光，减少对加工件造成物理损伤，达到高平坦化。
PD-GP-603二氧化硅精抛液
不锈钢研磨抛光液系列PD-GP-603二氧化硅精抛液比重：1.30±0.05(g/ml)固含量：40±1(%)；粒径：D50=60±5nmpH：10±0.5添加光亮助剂，可提升加工件的光亮度，适合不锈钢材料镜面抛光。
PD-GP-602精抛液
铝合金＆钛合金研磨液PD-GP-602精抛液比重:1.20±0.05(g/ml)固含量:25±1(%)粒径:D50=100±5nmpH:10±0.5悬浮体系稳定，不易结晶，可循环使用；抛光效果好，抛光件亮度高，粗糙度低，无橘皮、麻点等抛光不良。
PD-GP-601精抛液
铝合金＆钛合金研磨液PD-GP-601精抛液比重：20±0.05(g/ml)固含量:25±1(%)粒径:D50=60±5nmpH:10±0.5以球形二氧化硅为磨料，抛光液不结晶、易清 洗，配合适宜的抛光垫使用可得到高品质的镜 面效果。
PD-DA-M01金刚石研磨液
不锈钢研磨抛光液系列PD-DA-M01金刚石研磨液比重：1.05±0.05(g/ml)固含量：5±0.5(%)粒径：D50=1.5±0.5μmpH：3±0.5 以微米级单晶钻石为磨料，配合抛光铜盘使用，切削力强且加工件表面损伤小，可缩短加 工时间。
PD-CEP-02玻璃抛光液
非金属研磨液系列PD-CEP-02玻璃抛光液比重（g/ml）:1.95±0.05固含量（%）:70±1粒径:D50=1.0-1.5μm D100≤3.5μmpH:10±0.5高氧化铈磨料分散均 匀，耐磨性好，短时 间研磨即可得到明亮清透无瑕疵的产品， 磨料粒径分布收敛 无大颗粒,不易在加 工件表面造成划伤。
PD-AP-61碱性氧化铝精抛液
不锈钢研磨抛光液系列PD-AP-61碱性氧化铝精抛液比重：1.05±0.05(g/ml)；固含量：3.5±0.5(%)；粒径：D50=2±0.5μm；pH：8.5±0.5 纳米级磨料，加工件可达到镜面效果；弱碱性配方，不腐蚀抛光机台，可循环使用，用量少 , 成本低。
PD-AP-51湿抛液
铝合金＆钛合金研磨液系列PD-AP-51湿抛液比重:1.10±0.05(g/ml)固含量:12±1(%)pH:7.5±0.5粒径:D50=2±0.5um中性配方，安全不腐蚀抛光机台，适合循环使用，抛光效果好,工件表面纹路细腻，清洗后可直接进行镜面抛光。
PD-AP-41酸性氧化铝精抛液
不锈钢研磨抛光液系列PD-AP-41酸性氧化铝精抛液比重：1.10±0.05(g/ml)固含量：20±1(%)粒径 :D50=0.5-0.8 μmpH：3±0.5纳米级磨料，加工件可达到镜面效果，在同等条件下切削力是二氧化硅精抛液的 2 倍 以上。
PD-AA-02研磨液
PD-AA-02研磨液比重:1.10±0.05(g/ml)固含量:15±1(%)粒径:D50=4±1μmpH:3.0±0.5磨料粒度适中，悬浮性及分散性较好，颗粒无团聚现象，可快速去除CNC刀纹或砂纸纹而不留深划伤。
AS/AF药丸
防指纹镀膜颗粒是一种通过真空热蒸发镀膜实现产品防油污/防脏污性能的材料。它在真空受热的情况下把吸附在载体里面的有效成分蒸发到玻璃或薄膜表面形成疏水疏油的纳米级膜层，可以有效起到防指纹的效果。真空镀膜都是利用气相沉积的原理，在真空环境下，通过各种蒸发、溅射、离子轰击等方法使膜料在工件表面沉积而得到所需的
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